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3M™ Novec™ Electronic Surfactants

3M™ Novec™ Electronic Surfactants 는 low-metal 계면활성제다. 표면장력을 줄이기 위해 쓰고, wet-out, leveling, 특유의 다양한 과정의 유체와 코팅 flow-control를 개선하기 위해 만들어 졌습니다.

예를 들어 반도체 산업에서 사업체들은 금속 etch solution의 침투, 그밖에 물을 포함한 마이크로 전자공학에서 낮은 ph solution화학공정과 같은 것에서 쓰는 것을 개선했다. 사업체들은 wetting agent의 주된 것인 포토레지스트, 포토레지스트 strippers, edge bead 제거제, 반사방지 코팅 그리고 spin-on 유리 필름 또 한 사용했다.

Novec electronic surfactants는 화학적인 것에서 오랜시간 사용하도록 세심히 만들어 졌다. 게다가 잘 용해되어 쉽게 섞이고, 지속적으로 화학적인 과정에서 견디도록 만들어 졌습니다.

Features and Benefits

  • Low concentration에 효과적임
  • Etch rate에 영향을 주지 않거나 적게 준다
  • 거품이 적게난다.
  • 여과가능Filterable
  • 한정적인 표면 흡착


  • 3M™ Novec™ 4200 Electronic Surfactants

    3M™ Novec™ Electronic Surfactants 는 다양한 어플리케이션에서 wet-out, leveling 그리고 flow-control characteristics를 개선하기 위한 것입니다. 제품은 잘 용해되어 쉽게 섞이고, 지속적으로 화학적인 과정에서 견디도록 만들어 졌습니다.

    3M™ Novec™ 4300 Electronic Surfactants

    Anionic Fluorochemical Surfactant에는 빙초산, 20% active: metal etch에 사용적합하고 다양한 전자처리에 필요한 액화 soulution에 낮은 표면장력을 생성합니다.

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